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《科创板日报》4月20日讯（记者 吴旭光）4月18日，拓荆科技发布2022年年报，公司去年实现营收17.06亿元，同比增长125.02%；实现归母净利润3.69亿元，同比增长438.09%。值得一提的是，这也是拓荆科技首次实现盈利，根据科创板相关规定，4月19日起，公司股票名称成功摘“U”。

对于业绩大幅增长的原因，拓荆科技解释，受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，加上公司产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入持续高增长。

此外，年报显示，拓荆科技去年销售订单达43.62亿元，新增订单较上年同期增加95.36%。

业绩高涨的同时，公司股价也表现强劲。4月1日至4月20日，公司股价上涨超过53.24%，截至4月20日，该公司股价盘中报456.96元/股，涨幅超过3.76%，今年以来，拓荆科技的股价累计涨幅达103.63%，目前公司市值超过577亿元。

从业绩高增到订单饱满，再到股价暴涨，公司高成长性背后究竟有哪些逻辑支撑？

上海某芯片投资机构负责人曹兵在接受《科创板日报》记者采访时表示，主线逻辑是本土化替代的加速推进，半导体设备技术壁垒高，国产设备自给率低，本土化替代市场空间大，客观上看，8寸FAB厂的国产进程更容易，12寸晶圆厂的设备本土化进程更难。受国际市场限制，本土化进程明显加快，只要国产设备能用的，基本上都会考虑，给试用机会或试错的机会。

持有相同观点的还有创道投资咨询总经理步日欣，其进一步补充，公司深耕行业细分领域，产品也都是芯片生产环节不可或缺的关键设备。如今，半导体设备本土化进程加快，下游产线建设给了上游国产设备更多的机会。

东吴证券在研报中亦表示，拓荆科技主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。薄膜沉积设备作为前道三大核心设备，价值量占比高达22%，日本政府3月31日宣布限制23项半导体制造设备的出口，其中包括11项薄膜沉积设备，有望加速薄膜沉积设备国产创新。

除本土化替代机会，拓荆科技持续在新产品、新技术上加大研发投入。年报显示，拓荆科技去年研发投入3.79亿元，同比增加31.37%。拓荆科技表示，通过自主研发，公司形成了一系列具有自主知识产权的核心技术，公司产品已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断。

不过，与公司研发费用同样大幅增加的还有销售费用。2022年，拓荆科技销售费用为1.92亿元，同比增长98.3%。公司对此解释称，销售费用较上年同期增幅较大，主要是随着公司销售收入增加带来的售后质量保证金计提增长，同时职工薪酬增加所致。

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